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        磁控濺射鍍膜設(shè)備(PVD)
        
    
        
        
         產(chǎn)品與服務(wù) > 板式設(shè)備系列 > 磁控濺射鍍膜設(shè)備(PVD) 
        
        
        
            
        
                
        
                    



        
        

        
    
                
        
            
        
            
        
                
        
    
        
                    
          
                                    
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        磁控濺射鍍膜設(shè)備(PVD)
        
                        
        
                        
        
                        
        

        
                                        
          技術(shù)特點 Features  
        · 磁控濺射沉積。
          鍍膜原理 Coating Principle  
        · PVD具有多階陰極，可以制備種子層與多種折射率的疊層TCO。
          可兼容硅片尺寸 Compatible Wafer Size  
        · M10, M12/G12, 整片/半片。