技術(shù)特點 Features  

· 具有低溫與低轟擊特性的RPD 裝備是沉積各種薄膜時能保護(hù)鈣鈦礦吸收層的最佳利器。

· 直線式RPD 裝備能保持在真空環(huán)境下連續(xù)沉積鈣鈦礦所需各種ITO/IWO/ICO/Cu/SnO2 薄膜而不接觸大氣。

· 模塊化的RPD 裝備可以與鈣鈦礦吸收層ABX3 共蒸鍍、NiO 磁控濺射相配套來節(jié)約鈣鈦礦元件開發(fā)的試驗成本。

· 各種冷阱、相鄰鍍膜腔工藝氣氛隔絕與加熱器等選項，可以讓客戶發(fā)揮更多的鈣鈦礦薄膜組合與接面特性分析。

· RPD 鍍膜適合鈣鈦礦、異質(zhì)結(jié)太陽能電池、微型發(fā)光二極管與量子點顯示器等的各種薄膜制備。